Ионный имплантер IBS IMC-400
- Под заказ
Отправка с 13 июня 2026Цену уточняйте
Описание:
Имплантер модели IMC-400, разработанный компанией «Ion Beam Services», предназначен для решения производственных задач и для проведения исследований при имплантации стандартных и/или редко применяемых примесей.
|
Варианты исполнения |
Высокопроизводительная модель IMC-400P: для подачи подложек в автоматическом режиме (используется робот-загрузчик) Модель IMC-400RD: для исследований, разработок и выпуска небольших серий пластин (4 подложки на цикл). Младшая модель IMC-400 для специальных применений. |
|
Имплантация |
Имплантация стандартных (B, F, As, Ar и др.) и редко применяемых ионов. Всего более 60 материалов. Диапазон энергий: от 30 до 400 кэВ. Возможность имплантации двух- и трех- зарядных ионов. M/ΔM ≥100. Угол имплантации при комнатных температурах - от 0° до 45°. Дозы: от 1х1011 at/см2 до 1х1018 at/см2. Неоднородность дозы по всей области имплантации: ≤ 1.0% (при комнатной температуре). Неоднородность пластины к пластине: ≤ 1.0% |
|
Подложки |
Совместим с подложками из Si, SiC, GaAs, Al2O3. Размер: от 1 см2 до 150 мм в диаметре. Любой угол наклона и поворота пластин в процессе. |
|
Пучок |
Для 75As, 31P ≥ 300 мкА Для 11В ≥ 150 мкА |
Особенности:
- Низкая стоимость эксплуатации.
- Доказанная надежность работы.
- Программы поддержки при разработке процессов имплантации примесей.
- Легкость техобслуживания и ремонта.
- Учет пожеланий заказчика при разработке и модификации имплантера.
- Широкий ряд предлагаемых опций, в т.ч. набор опций типа «включил и работай» для применений от -150°С до +600°С.
- Возможно применение 2-х конечных станций, одна из которых будет служить для R&D применений и использовать загрузку в ручном режиме, а во второй можно осуществлять загрузку подложек при помощи робота.
- Разработанный модуль векторного сканирования позволяет осуществлять легкий выбор из запрограммированных или самостоятельно разработанных пользователем схем сканирования.
Опции:
- Ионные источники: Бернаса, Фримана, Твердотельный источник, Специальный IBS источник для Al, источник распыления.
- Имплантация двойного заряда.
- Имплантация ионов низкой энергии (2 кэВ).
- Подача рабочих веществ из жидкой фазы.
- Нагрев подложек.
- Охлаждение подложек: водой, жидким азотом ( -150°С).
- Робот-податчик (на 25 пластин).
| Основные атрибуты | |
|---|---|
| Производитель | IBS |
| Страна производитель | Франция |
- Цена: Цену уточняйте
