Начать продавать на Deal.by
Корзина
Нет отзывов, добавить
+375 (29) 370-80-76
Корзина

Установка для очистки больших трехмерных подложек методом сухой чистки sciaClean 1500

Установка для очистки больших трехмерных подложек методом сухой чистки sciaClean 1500
  • Под заказ
clockОтправка с 13 июня 2026

Цену уточняйте

+375 (29) 370-80-76

Заказ только по телефону

Установка для очистки больших трехмерных подложек методом сухой чистки sciaClean 1500Установка для очистки больших трехмерных подложек методом сухой чистки sciaClean 1500
Цену уточняйте
Под заказ
+375 (29) 370-80-76
Описание
Характеристики
Информация для заказа

Описание

Установка SciaClean 1500 предназначена для очистки больших трехмерных подложек методом термической десорбции, вакуумной десорбции и плазменной обработки. Основной сферой применения является сверхчистая очистка оптических компонентов и медицинских объектов.

Установка SciaClean 1500 доступна с отдельными системами нагрева для камеры и для подложки. Это обеспечивает очень хорошее базовое давление, которое необходимо для количественного определения даже небольших остаточных загрязнений на подложке методом масс-спектроскопии. Очистка может быть улучшена за счет выбора количества источников плазмы в соответствии с требованиями заказчика. Система транспортировки может использоваться для подложек весом до 3 тонн.

Свойства:

  • Раздельный нагрев камеры и подложки
  • Выбираемое количество источников плазмы
  • Система транспортировки для загрузки больших 3Dподложек
  • Контроль качества очистки с помощью масс-спектрометра

Области применения:

  • Сверхвысокая степень очистки рентгеновской оптики
  • Стерилизация медицинских объектов (например, имплантатов и стентов)
  • Очистка и обезжиривание металлических поверхностей электрических устройств

 

Технические характеристики

Размеры камеры

2,00 м x 3,00 м x 2,00 м

Источники плазмы

Дополнительные источники плазмы PI400

Максимальная ВЧ мощность

2,5 кВт для каждого источника

Рабочие температуры

Камера: охлаждение до 0 °C; нагрев до 150 °C Подложка: радиационный нагрев до 250 °C

Контроль качества

Масс-спектрометр для измерения уровня очистки

Базовое давление

< 5 x 10-8 мбар

Размеры системы (Ш х Г х В)

9,00 м x 6,00 м x 4,00 м (с электрической стойкой и насосами)

Конфигурации системы

Система транспортировки с тележкой для подложек

Выбираемое количество источников плазмы, турбонасос или крионасос

Программный интерфейс

SECS II / GEM

Основные
Страна производительГермания
  • Цена: Цену уточняйте