Описание
Установка SciaClean 1500 предназначена для очистки больших трехмерных подложек методом термической десорбции, вакуумной десорбции и плазменной обработки. Основной сферой применения является сверхчистая очистка оптических компонентов и медицинских объектов.
Установка SciaClean 1500 доступна с отдельными системами нагрева для камеры и для подложки. Это обеспечивает очень хорошее базовое давление, которое необходимо для количественного определения даже небольших остаточных загрязнений на подложке методом масс-спектроскопии. Очистка может быть улучшена за счет выбора количества источников плазмы в соответствии с требованиями заказчика. Система транспортировки может использоваться для подложек весом до 3 тонн.
Свойства:
- Раздельный нагрев камеры и подложки
- Выбираемое количество источников плазмы
- Система транспортировки для загрузки больших 3Dподложек
- Контроль качества очистки с помощью масс-спектрометра
Области применения:
- Сверхвысокая степень очистки рентгеновской оптики
- Стерилизация медицинских объектов (например, имплантатов и стентов)
- Очистка и обезжиривание металлических поверхностей электрических устройств
Технические характеристики
|
Размеры камеры |
2,00 м x 3,00 м x 2,00 м |
|
Источники плазмы |
Дополнительные источники плазмы PI400 |
|
Максимальная ВЧ мощность |
2,5 кВт для каждого источника |
|
Рабочие температуры |
Камера: охлаждение до 0 °C; нагрев до 150 °C Подложка: радиационный нагрев до 250 °C |
|
Контроль качества |
Масс-спектрометр для измерения уровня очистки |
|
Базовое давление |
< 5 x 10-8 мбар |
|
Размеры системы (Ш х Г х В) |
9,00 м x 6,00 м x 4,00 м (с электрической стойкой и насосами) |
|
Конфигурации системы |
Система транспортировки с тележкой для подложек Выбираемое количество источников плазмы, турбонасос или крионасос |
|
Программный интерфейс |
SECS II / GEM |
| Основные | |
|---|---|
| Страна производитель | Германия |
- Цена: Цену уточняйте


Отправка с 13 июня 2026