Установка электронно-лучевой литографии NanoBeam nB5
- Под заказ
Отправка с 13 июня 2026Цену уточняйте
Описание
Установка NB5 представляет собой систему с векторным сканированием прямым лучом, которая использует метод последовательной шаговой мультипликации. Данная система была специально разработана для комбинированной литографии.
Современная и инновационная конструкция системы позволяет достичь высокой производительности и надёжности. Установка nB5 идеально подходит для разработки и производства нано-устройств.
Установка nB5 выполняет обратную литографию для формирования металлизированного слоя в 20 нм, при определенных параметрах процесса может быть достигнуто 10нм. Повторяемый результат в нанесении металлизированного слоя <20нм был продемонстрирован в производстве полупроводниковых пластин.
Уникальная и компактная вакуумная система установки обеспечивает бесперебойную работу и надежную работу. Надежное и простое в использовании программное обеспечение и расширяемый графический интерфейс делают установку удобной для пользователя.
Отличительные особенности:
- Низкий кулоновский эффект электронной оптики
- Уникальная автоматическая система загрузки
- Система отслеживания вибрации
- Высокая устойчивость к полям рассеиванния
- Инновационная конструкция электронной пушки
- Дружелюбный интерфейс ПО
- Высокая пропускная способность
- Малая занимаемая площадь
Области применения:
- Микроэлектроника
- МЭМС
- Микрофлюидика
- Оптоэлектроника
Технические характеристики
| Основные | |
|---|---|
| Страна производитель | Великобритания |
| Пользовательские характеристики | |
| Дополнительный сервис | Установка |
- Цена: Цену уточняйте
