Полностью автоматическая система очистки фотошаблонов Technovision TWC-200A
- Под заказ
Отправка с 13 июня 2026Цену уточняйте
Описание
Установка TWC-200A подходит для автоматического удаления остатков резиста и частиц размером более 1 мкм, которые прикрепляются к шаблону на операциях его экспонирования и обработки.
TWC-200A – это полностью автоматическая система с кассетной загрузкой образцов, которая может использовать специальные химические растворы для повышения производительности и эффективности очистки.
Для осушения используется нагретая деионизирлванная вода, которая подается на образец через конвекционный воздушный нож, который спроектирован таким образом, что нет необходимости в настройке направления распыляемой воды.
Система работает с четырьмя видами химических растворов, которые выбираются под процесс заказчика. Когда раствор заканчивается его можно заменить, установив резервуар с другим раствором.
Отличительные особенности:
- Полное удаление резиста и остатков резиста
- Полное удаление частиц размером более 1 мкм
- Шаблоны могут использоваться постоянно
- Химические растворы последнего поколения экологически безопасны
- Не повреждает поверхность и топологию шаблона
- Подходит для двусторонней очистки
Опции:
- Узел впрыска поверхностно-активного вещества
- HEPA/ULPA фильтры
- Ионизатор
- Воздушный нож с горячим воздухом
- Модуль нагрева деионизированной воды
Области применения: Очистка образцов, очистка пластин, очистка поверхности.
Технические характеристики
| Основные | |
|---|---|
| Страна производитель | США |
| Пользовательские характеристики | |
| Дополнительный сервис | Установка |
- Цена: Цену уточняйте
