Начать продавать на Deal.by
Корзина
Нет отзывов, добавить
+375 (29) 370-80-76
Корзина

Система монтажа кристаллов методом перевернутого кристалла BESI Datacon 8800 FC QUANTUM advanced

Система монтажа кристаллов методом перевернутого кристалла BESI Datacon 8800 FC QUANTUM advanced
  • Система монтажа кристаллов методом перевернутого кристалла BESI Datacon 8800 FC QUANTUM advanced, фото 2
  • Система монтажа кристаллов методом перевернутого кристалла BESI Datacon 8800 FC QUANTUM advanced, фото 3
  • Система монтажа кристаллов методом перевернутого кристалла BESI Datacon 8800 FC QUANTUM advanced, фото 4
  • Под заказ
clockОтправка с 13 июня 2026

Цену уточняйте

+375 (29) 370-80-76

Заказ только по телефону

Система монтажа кристаллов методом перевернутого кристалла BESI Datacon 8800 FC QUANTUM advancedСистема монтажа кристаллов методом перевернутого кристалла BESI Datacon 8800 FC QUANTUM advanced
Цену уточняйте
Под заказ
+375 (29) 370-80-76
Описание
Характеристики
Информация для заказа

Описание

Поскольку в сборке ИС происходит массовый переход на метод монтажа перевернутым кристаллом (FlipChip), компания Besi, благодаря усовершенствованной системе монтажа кристаллов методом перевернутого кристалла (FlipChip) Datacon 8800 FC QUANTUM advance, вновь устанавливает рекорд в области скорости монтажа и производительности. Ультрасовременная система позиционного управления, уникальная технология системы CRYSTAL (нанесения флюса на основе стекла) и улучшенная вычислительная способность обеспечивают наивысшую скорость и эффективность системы Datacon 8800 FC QUANTUM advance для монтажа кристаллов методом перевернутого кристалла (FlipChip), которая уже присутствует на рынке.

Особенности:

  • Высочайшая производительность: до 9000 изделий, в том числе при флюсовании окунанием
  • Контроль за технологическим процессом и управление объемом выхода готовой продукции
  • Доказанная погрешность 5 мкм

 

Основные характеристики

Беспрецедентная скорость работы

  • Уникальная запатентованная технология CRYSTAL (нанесение флюса на основе стекла с одновременной проверкой) 
  • Усовершенствованное управление по траекториям и система позиционного управления
  • Полный контроль за технологическим процессом производства на высочайшей скорости 

Полный контроль за объемом выхода готовой продукции

  • Управление полным процессом производства
  • Наилучшая практичность благодаря усовершенствованной системе рентген-контроля
  • Быстрая проверка после монтажа

Доказанная погрешность на производстве

  • 5 мкм на самой высокой скорости производства
  • Низкая вибрация благодаря системе точного позиционирования SMART
  • Улучшенная система тестирования Matrix BMC

Наименьшее время на поставку системы

  • Экономичный производственный процесс
  • Соответствие производственного процесса стандартам компании Besi
  • Введенная однотипная система обеспечения качества у контрактных производителей

 

Опции

Возможность работы с подложками и лентами

  • Накопители заготовок и обработанных деталей
  • Устройство загрузки/выгрузки магазина ML1
  • Система технического зрения
  • Освещение «красный-зеленый-синий» (RGB)
  • Оптическое распознавание подложек 

 

Программное обеспечение

  • Разметка подложек и лент (п/п S12, S14 в подложках G84 и E142) 

  • Адаптированный рентген-контроль 

  • Проверка устройства переворота, захвата и размещения кристалла 

  • Система контроля чистоты ушка сварочной иглы 

  • Система контроля выталкивания сварочной иглы

  • Система контроля выталкивания крышки 

  • Система выталкивания с камерой для передачи изображения в режиме реального времени

  • Функция управления SECS GEM

  • Верификация карты полупроводниковой пластины

  • Настройка уровня пользователя 

  • Расширенная настройка проверки зоны нанесения флюса 

  • Проверка обкалывания краев 

  • Автоматическая подсветка 

  • Распределенная система сварки 

  • Отслеживание монтажа каждого компонента

  • Управление партией продукции

 

Технические характеристики

Погрешность монтажа по осям X/Y

± 5 мкм (3 σ)

Усилие соединения

от 200 до 5000 гр

Размер кристалла

0,4 – 30 мм (в быстром режиме CUC <12 мм)

Толщина кристалла

0,02 – 7 мм

Габаритные размеры подложки

4 - 12 дюймов (с рамкой подложки 8 или 12 дюймов)

Типы подложек

FR4, керамические, BGA, ленты, с гибкой структурой, кассета, с выводными рамками

Рабочая зона

13 x 12 дюймов

Толщина пленки флюса

В наличии различные пресс-формы

Габаритные размеры подложки

1600 x 1200 x 1450 мм (Ш x Г x В)

Вес

2000 кг

Основные
Производитель Besi
Страна производительНидерланды
  • Цена: Цену уточняйте