Установка для многослойного покрытия прецизионной оптики методом магнетронного напыления sciaMulti 680
- Под заказ
Отправка с 13 июня 2026Цену уточняйте
Описание
Установка sciaMulti 680 предназначена для формирования многослойных покрытий на подложках диаметром до 650 мм и весом до 50 кг. Основной сферой применения является создание градиентных многослойных покрытий зеркал для мягкого рентгеновского излучения и неотражающих покрытий в ультрафиолетовых и рентгеновских приложениях.
В установке sciaMulti 680 используется 6 радиально расположенных магнетронов для распыления, каждый из которых установлен в отдельном корпусе для индивидуальной подачи газа и заданного профиля эмиссии частиц. Подложка перемещается вдоль магнетронов по круговой траектории в положении лицевой стороной вниз с помощью двухфазного двойного привода вращения. Каждый орбитальный оборот создает один период многослойного покрытия. Предварительный расчет профилей орбитального вращения позволяет компенсировать отдельные эмиссионные профили магнетронов и осаждать требуемые градиентные пленки вдоль спиновой оси вращения.
Свойства:
- Система подачи с загрузочным шлюзом и двумя независимыми положениями подложек
- Ориентация подложки лицом вниз для минимизации нагрузки пучком частиц
- Высокоточные однородные или градиентные пленки на изогнутых подложках с помощью комбинированного орбитального и спинового вращения с модулированной скоростью
- Произвольный порядок магнетронов для периодического многослойного и/или адгезионного или верхнего покрытия
- Регулируемое расстояние распыления между мишенью и подложкой
Области применения:
- Многослойные покрытия для зеркал мягкого рентгеновского излучения
- Многослойные покрытия для рентгеновских зеркал для тракта пучка и аналитических приложений
- Многослойные покрытия для пропускающей излучение УФ оптики
Технические характеристики
|
Диаметр подложки |
До 650 мм; вес до 50 кг |
|
Источник для распыления |
До 6 прямоугольных 24-дюймовых магнетронов напыления |
|
Режимы напыления |
Постоянный ток, ВЧ, импульсный |
|
Типичная скорость осаждения |
Cr: 45 нм/мин; Si: 22 нм/мин; Ti: 22 нм/мин |
|
Отклонения по однородности |
< 0,1 % для диаметра 300 мм < 0,5 % для диаметра 450 мм |
|
Базовое давление |
< 1 x 10-8 мбар |
|
Размеры системы (Ш х Г х В) |
7,90 м x 4,40 м x 3,50 м (без электрической стойки и насосов) |
|
Конфигурации системы |
1 загрузочный шлюз с 1 камерой покрытия |
|
Программный интерфейс |
SECS II / GEM |
| Основные | |
|---|---|
| Страна производитель | Германия |
| Пользовательские характеристики | |
| Дополнительный сервис | Установка |
- Цена: Цену уточняйте
