Установка для химического осаждения из газовой фазы металлоорганических соединений SDC MOCVD

Описание:

Системы MOCVD обладают способностью осаждения слоев требуемого состава на подходящую подложку со ступенчатой структурой (что достигается с помощью программного обеспечения линейным увеличением необходимых процессов). Точное управление процессом обеспечивает создание слоев MOCVD с резкими границами или отдельных слоев со ступенчатой структурой.

Системы MOCVD производства CVD Equipment Corporation отвечают технологическим требованиям заказчика и характеризуются гибкостью и низкой эксплуатационной стоимостью. Системы обеспечивают осаждение веществ класса II-VI и III-V.

Доступна обработка одиночных подложек или группы подложек. Система разработана для обработки подложек с размером, определяемым пользователем. Распылительная головка с регулировкой температуры дозирует точное количество прекурсора и газов, при одновременном вращении подложки при осаждении, обеспечивая превосходную однородность напыления.

Система, работающая под управлением программного обеспечения CVDWinPrC™, автоматически регистрируют данные и графически отображают зависящие от времени значения, согласно выбранным пользователем параметрам. CVDWinPrC™ предоставляет пользователям возможность загружать предварительно запрограммированные наборы команд, изменять, проверять и создавать новые наборы, и просматривать текущие или сохраненные данные технологического процесса.

Установка отвечает строгим современным стандартам техники безопасности и может безопасно работать с самовоспламеняющимися на воздухе и токсичными химикатами. Опция камеры загрузочного шлюза предотвращает загрязнение воздухом рабочей камеры при загрузке/разгрузке подложек. Система оснащена протоколами безопасности, сконфигурированными в соответствии с приложением, которые встроены в программное обеспечение CVDWinPrC™.

Особенности:

• Программное обеспечение для управления системой CVDWinPrC™ для контроля процесса в реальном времени, регистрации данных и редактирования набора команд
• Кварцевая рабочая камера
• Размер подложки зависит от требований пользователя
• Электропечь сопротивления для температур до 1000 °C
• Распылительная головка с регулировкой температуры
• Вращение подложек
• Графитовый держатель с покрытием молибденом или SiC
• Регулируемое расстояние между подложкой и распылительной головкой
• Функционирование при низком давлении от 100 мторр до 700 торр
• Автоматическая загрузка/выгрузка подложек
• Трубопровод для газа высокой чистоты
• Испарители-барботеры жидкого источника металлоорганической примеси
• Выбираемые пользователем предупреждающие и аварийные сигналы
• Комплексная система защиты программного и аппаратного обеспечения
• Гарантия 1 год
• Камера из нержавеющей стали
• Горизонтальный высокочастотный индукционный нагрев до рабочих температур более 1500 °C
• Загрузочный шлюз для защиты рабочей камеры от окружающей атмосферы
• Водородный очиститель
• Перчаточный бокс с продувкой Ar/N2
• Анализатор остаточных газов
• Шкафы CiphercoN™ для взрывоопасного газа
• Панели для сверхчистого газа MicroLine™ или SimplicitY для аргона, азота, гелия, кислорода
• Система подготовки газа CVDExhaust™

Под управлением CVDWinPrC™

Системы, работающие под управлением программного обеспечения CVDWinPrC™, автоматически регистрируют данные и графически отображают зависящие от времени значения, согласно выбранным пользователем параметрам. CVDWinPrC™ также предоставляет пользователям возможность загружать предварительно запрограммированные наборы команд, изменять, проверять и создавать новые наборы, и просматривать текущие или сохраненные данные технологического процесса.

Протоколы безопасности

Системы оснащены протоколами безопасности, сконфигурированными в соответствии с приложением, которые встроены в релейно-контактную логическую схему, программируемый логический контроллер и программное обеспечение CVDWinPrC™.