Установка для гидридной газофазной эпитаксии SDC CVD HVPE

Описание:

Гидридная газофазная эпитаксия - интенсивный процесс осаждения для выращивания кристаллов высокого качества. Общим применением процесса является производство подложек из нитрида галлия (GaN) и объемных кристаллов. Хлорид галлия производится на месте посредством реакции хлорирования. Затем хлорид смешивается с аммиаком в присутствии подложки при высокой температуре для формирования кристалла GaN. Легирование легко выполняется с применением точного регулирования.

С помощью метода HVPE могут изготавливаться другие полупроводниковые кристаллы III/V-типа, включая фосфид индия (InP) и арсенид галлия (GaAs). Скорости роста до 300 мкм/ч легко достигаются с помощью установки HVPE.

Системы HVPE могут быть сконфигурированы для специализированных требований пользователя.

Особенности:

• Программное обеспечение для управления системой CVDWinPrC™ для контроля процесса в реальном времени, регистрации данных и редактирования набора команд
• Конфигурирование в соответствии с требованиями пользователя
• Печь с 5 зонами
• Вертикальная технологическая камера с предкамерами для хлорирования
• Вращение подложек для улучшенной однородности
• Загрузочная станция с перчаточным боксом, продуваемым азотом
• Газовые шкафы
• Обработка отработанных газов
• Конфигурация для выращивания ряда легированных и нелегированных эпитаксиальных кристаллов III/V-типа
• Вещества, включающие GaN, GaAs, InP и др.
• Камеры хлорирования для легирующей примеси хлоридов

Под управлением CVDWinPrC™

Системы, работающие под управлением программного обеспечения CVDWinPrC™, автоматически регистрируют данные и графически отображают зависящие от времени значения, согласно выбранным пользователем параметрам. CVDWinPrC™ также предоставляет пользователям возможность загружать предварительно запрограммированные наборы команд, изменять, проверять и создавать новые наборы, и просматривать текущие или сохраненные данные технологического процесса.

Протоколы безопасности

Системы оснащены протоколами безопасности, сконфигурированными в соответствии с приложением, которые встроены в релейно-контактную логическую схему, программируемый логический контроллер и программное обеспечение CVDWinPrC™.