Установка для атомно-слоевого осаждения SDC ALD
- Под заказ
Отправка с 13 июня 2026Цену уточняйте
Описание:
Атомно-слоевое осаждение - это тонкопленочная технология нанесения атомных слоев с прецизионной точностью для получения поверхностей превосходной конформности с высоким аспектным соотношением и беспористыми слоями. Результат достигается посредством последовательного формирования атомных слоев в условиях самоограничивающейся реакции.
Атомно-слоевое осаждение широко применяется в полупроводниковой промышленности при нанесении диэлектрических пленок с высокой проницаемостью для структур CMOS, устройств памяти, микроэлектромеханических систем (MEMS) и датчиков.
Системы атомно-слоевого осаждения используется для создания защитных и функциональных покрытий топливных элементов и для других применений, где требуется защита от коррозии и износостойкости. Они также используются для покрытия структур с высоким аспектным соотношением, таких как нанопровода и нанотрубки для разработки устройств следующего поколения.
- Оксиды: Al2O3, TiO2, SnO, HfO2, ZnO, Fe2O3
- Нитриды: TiN, TaN, WN
- Металлы: Cu, Ru, Ir, W и другие.
Под управлением CVDWinPrC™
Системы, работающие под управлением программного обеспечения CVDWinPrC™, автоматически регистрируют данные и графически отображают зависящие от времени значения, согласно выбранным пользователем параметрам. CVDWinPrC™ также предоставляет пользователям возможность загружать предварительно запрограммированные наборы команд, изменять, проверять и создавать новые наборы, и просматривать текущие или сохраненные данные технологического процесса.
Протоколы безопасности
Системы оснащены протоколами безопасности, сконфигурированными в соответствии с приложением, которые встроены в релейно-контактную логическую схему, программируемый логический контроллер и программное обеспечение CVDWinPrC™.
| Основные | |
|---|---|
| Страна производитель | США |
| Производитель | IR |
| Пользовательские характеристики | |
| Дополнительный сервис | Установка |
- Цена: Цену уточняйте
