Системы электронно-лучевого напыления NANO-MASTER NEE-4000

Описание

Система электронно-лучевого напыления доступна в двух различных конфигурациях. Компактная вертикальная двухкамерная конфигурация состоит из основной кубической камеры размером 14 дюймов, в которой располагается держатель для пластин, под основной камерой предусмотрена вторая камера с источником электронного луча. Данная конфигурация может быть оснащена затвором между двумя камерами, который применяется в качестве загрузочного шлюза для сохранения вакуума на источнике электронного луча и испарительных карманах во время загрузки и выгрузки подложек из основной камеры.

В задачах, где требуется применять автоматическую загрузку и выгрузку пластин, третий загрузочный шлюз крепится с левой стороны куба к другому загрузочному шлюзу. В этом случае давление в основной камере может быть понижено до уровня 10-7 торр, что позволяет начинать напыление через несколько минут после загрузки пластины. Вторая конфигурация включает одну большого камеру, которая позволяет устанавливать электронно-лучевые пушки, магнетроны и устройства термического напыления непосредственно на базовую плиту. В данной конфигурации возможно выполнять напыление на несколько подложек с применением планетарного подложкодержателя.

NANO-MASTER также предлагает комбинированную систему напыления с использованием маскирования подложки и контролируемых компьютером скоростей напыления отдельных электронно-лучевых источников.

Характеристики

• Электрополированная кубическая камера из нержавеющей стали марки 304L размером 14 дюймов либо 21 x 21 x 22 дюйма;
• Базовое давление, получаемое с применением турбомолекулярной насосной установки, составляет 5х10-7 торр;
• Электронная пушка 4x 15cc;
• Затворы для источника и подложки;
• Импульсный источник питания на 6 кВт и 10 кВт;
• Размеры основания корпуса 26 x 44 дюйма с панелями из нержавеющей стали для чистых помещений класса 100;
• Кварцевый датчик толщины;
• Интерфейс пользователя, разработанный в LabView;
• Средства аварийного отключения и защитные блокировки.

Опции

• Нагрев подложки до 800°C либо охлаждение;
• Осаждение при угле скольжения (GLAD) с вращением;
• Планетарный держатель подложки;
• РЧ/DC смещение для подложки;
• Двойной электронно-лучевой источник для совместного напыления;
• Ионный источник для очистки подложки и ионного напыления;
• Дополнительные источники осаждения из газовой фазы (тепловой, распыление);
• Регуляторы массового расхода для реактивного напыления;
• Автоматическая загрузка/выгрузка;

Область применения

• Обратная литография;
• Оптические покрытия;
• Тонкопленочные транзисторы;
• Нанесение активного слоя из диселенид галлия-индия-меди (CIGS);
• Джозефсоновские контакты.