Системы плазмохимического осаждения из газовой фазы NANO-MASTER NPE-4000

Описание

Системы плазмохимического осаждения из газовой фазы NANO-MASTER могут применяться для нанесения высококачественных пленок SiO2, Si3N4, CNT, DLC либо SiC. В зависимости от решаемой задачи в качестве плазменных источников могут применяться РЧ-источники душевого типа, полый катод, источники с индуктивно-связанной плазмой, а также микроволновые источники. Зажимная пластина для подложек позволяет размещать подложки с размером до 8 дюймов с возможностью РЧ-смещения, смещения импульсным постоянным током или постоянным током при резистивном либо инфракрасном нагреве до 800°С.

Благодаря применению турбомолекулярного насоса с производительностью 250 л/сек с механическим насосом с производительностью 0,1415 м3/мин, уровень вакуума в камере может достигать значения 5x10-7 торр. Компьютер с программным обеспечением, разработанным в среде LabView обеспечивает полную автоматизацию всех процессов.

Характеристики

• Кубическая камера из алюминия с размером 13 дюймов либо из нержавеющей стали с размером 14 дюймов;
• Базовое давление 5х10-7 торр благодаря применению турбонасоса;
• Плазменные источники: РЧ-источник душевого типа, полый катод, источник с индуктивно-связанной плазмой, а также микроволновый источник;
• Газовое кольцо для прекурсоров и газов;
• Держатель для подложек: диапазон температуры от 200°C to 800°C, поддержка вращения, смещение с применением РЧ-сигнала, низкочастотного РЧ-сигнала, постоянного тока, а также импульсного постоянного тока;
• Регуляторы массового расхода с электрополированными газовыми линиями и пневматическими запорными клапанами;
• Полная автоматизация процесса под управлением ПК в соответствии с заданной программой;
• Интерфейс пользователя, разработанный в среде LabVIEW;
• Средства аварийного отключения и защитные блокировки.

Опции

• Источник с индуктивно-связанной плазмой для получения плазмы высокой плотности;
• Смещение подложки импульсным постоянным током;
• Смещение с применением сигнала низкой частоты для контроля натяжения пленки;
• Вращающийся держатель подложек для покрытия объемных деталей;
• Автоматическая загрузка/выгрузка;
• Безмасляный насос;
• Барботеры для металлоорганических соединений с подогреваемыми газовыми линиями;
• Газосепараторы для токсичных газов токсичных с функцией мониторинга;
• Определение окончания процесса;
• Различные допирующие вещества (PH3, B2H6).

Область применения

• Герметизация, изоляция;
• Фотонные структуры;
• Алмазоподобные покрытия;
• Углеродные нанотрубки – Устройства памяти;
• Слой поверхностной пассивации – Солнечные панели;
• Графен – Наноэлектроника.