Начать продавать на Deal.by
Корзина
Нет отзывов, добавить
+375 (29) 370-80-76
Корзина

Системы влажной очистки промежуточных фотошаблонов NANO-MASTER NANO-MASTER LSC-5000

Системы влажной очистки промежуточных фотошаблонов NANO-MASTER NANO-MASTER LSC-5000
  • Системы влажной очистки промежуточных фотошаблонов NANO-MASTER NANO-MASTER LSC-5000, фото 2
  • Системы влажной очистки промежуточных фотошаблонов NANO-MASTER NANO-MASTER LSC-5000, фото 3
  • Под заказ
clockОтправка с 20 мая 2026

Цену уточняйте

+375 (29) 370-80-76

Заказ только по телефону

Системы влажной очистки промежуточных фотошаблонов NANO-MASTER NANO-MASTER LSC-5000Системы влажной очистки промежуточных фотошаблонов NANO-MASTER NANO-MASTER LSC-5000
Цену уточняйте
Под заказ
+375 (29) 370-80-76
Описание
Характеристики
Информация для заказа

Описание:

LSC-5000 представляет собой новейшую систему очистки промежуточных фотошаблонов, построенную на базе самых современных технологий и обладающую расширенной функциональностью. Благодаря функции автоматической загрузки/разгрузки промежуточных фотошаблонов, процесс очистки с применением LSC-5000 полностью автоматизирован, что гарантирует точную, равномерную и повторяемую очистку. 

LSC-5000 позволяет очищать как оборотную сторону, так и выравнивающие метки на лицевой стороне фотошаблонов с пеликлами, снижая потребность в ненужном удалении и повторном размещении пеликлов на данных фотошаблонах. Мегазвуковая очистка и центробежная сушка всей лицевой поверхности фотошаблона с пеликлами выполняется без повреждений и просачивания конденсата на пеликле. Система также способна удалять клеевой состав, фиксирующий рамку пеликла и может применяться для подготовки поверхности для повторного размещения пеликла.

 

Функциональные возможности

Два сдвоенных распылительных кронштейна:

  • Линейный кронштейн обеспечивает равномерную очистку меток выравнивания на лицевой стороне предварительных фотошаблонов с пеликлами;
  • Радиальный кронштейн обеспечивает мегазвуковую очистку деионизированной водой с однородным подводом энергии для очистки оборотной стороны.

Очистка предварительных фотошаблонов с пеликлами:

  • Предварительный фотошаблон фиксируется на держателе лицевой стороной вниз, при этом оборотная сторона очищается радиальным кронштейном. После чего предварительный фотошаблон высушивается, захватывается и переворачивается. На лицевую сторону устанавливается кольцо для защиты пеликла после чего выравнивающие метки подвергаются мегазвуковой очистке с применением деионизированной воды, щетки и химического распыления с использованием линейного кронштейна. Зажимное устройство поворачивается на 180° после чего производится очистка другой стороны. Промежуточный фотошаблон высушивается, а защитное кольцо удаляется. Загрузка промежуточного фотошаблона в кассету для стандартного механического интерфейса производится автоматически.

 

Характеристики:

  • Роботизированная загрузка/разгрузка с применением модуля внешнего интерфейса оборудования и стандартного механического интерфейса;
  • Большая камера с контролируемой окружающей средой;
  • Мегазвуковая очистка без повреждения образца;
  • Независимое распыление химических веществ;
  • Щетка с переменной скоростью вращения и распылением химических веществ;
  • Компьютерное управление с программным обеспечением, разработанным в среде LabVIEW;
  • Интерфейс пользователя с сенсорным экраном;
  • Регистрация данных;
  • Разделенный дренаж для растворителей и кислот;
  • Защитные блокировки и аварийные сигналы.

 

Опции

  • Наливной модуль подачи химикатов; 
  • Ионизатор азота и ввод CO2;
  • Очистка в режиме «Пиранья»;
  • Озонированная деионизированная вода (концентрация O3: 20ppm);
  • Подача деионизированной воды под высоким давлением;
  • Подогрев деионизированной воды.

 

Область применения

  • Заготовки фотошаблонов со слоем фоторезиста;
  • Промежуточные фотошаблоны с пеликлами;
  • Промежуточные фотошаблоны без пеликлов;
  • Контактные фотошаблоны.
 

 

Основные
Производитель NANO-MASTER
Страна производительСША
  • Цена: Цену уточняйте