Описание
Характеристики
Информация для заказа
Описание
Ключевые особенности и опции:
- Источник магнетронного распыления размером до 254 мм
- Диаметр подложек до 300 мм
- Возможность создавать многослойные структуры (до четырех мишеней)
- RF или DC источники Роботизированная загрузка подложек
- Высоковакуумная система: турбомолекулярный вакуумный насос / криогенный вакуумный насос
- Температура нагрева до 400°С
- Управляющее ПО на основе ОС Windows
Технические характеристики
Диаметр подложек:
- 300 мм, толщина до 3 мм
Однородность пленок:
- ±5% 0150 мм для Al, Ti, Cr и др.
Мишень:
- До четырех мишеней
- Размеры: 50,75,100,150,175 и 254 мм
Магнетрон:
- Катод SS-100, макс. 4 шт. диаметром 100 мм, с возможностью настройки расстояния между магнетроном и подложкой (опция)
Источник питания:
- RF: 0,3 кВт для очистки
- RF: 1,0 кВт для диэлектриков DC: 5,0 кВт для металлов
Предельный вакуум:
- 2х 10-7Торр
Скорость натекания:
- <1,0х10"8ст. см.куб/с
Температура на подложке:
- До 350°С
| Основные | |
|---|---|
| Страна производитель | Южная Корея |
- Цена: Цену уточняйте


Отправка с 13 июня 2026