Установка для физического осаждения из паровой фазы Applied Materials ENDURA® EXTENSA™ TTN
- Под заказ
Отправка с 13 июня 2026Цену уточняйте
Applied Endura Extensa TTN предлагает гибкое решение при переходе на медные межсоединения для повышения производительности устройств. Надежная технология осаждения установки обеспечивает устойчивость процесса барьерного осаждения для устройств Flash и DRAM 5нм и меньше.
Установка базируется на ведущей в отрасли платформе Endura, а технологический процесс осаждения решает проблему уменьшения медных, медно-алюминиевых или медно-вольфрамовых диффузионных барьеров. С уникальной расширенной производственной базой физического осаждения из паровой фазы для титана, металлического нитрида титана (TiN) и полностью азотированного осаждения TiN в одной и той же камере без изменения аппаратной конфигурации, Extensa TTN может также обеспечивать создание контактных площадок.
Равномерность шага системы и сопротивление слоя (с неравномерностью<3% 1σ) позволяют осаждать более тонкий барьерный слой, уменьшать выступы и облегчать заполнение пустот. Камера снабжена заземленными цельными алюминиевыми комплектами CleanCoat ™, что позволяет уменьшить количество дефектов до одного из лучших значений в отрасли (<10 @ 0,12 мкм) и уменьшает стоимость расходных материалов. Более тонкая пленка и меньшее количество наносимой пасты также снижают себестоимость пластины.
Extensa TTN оснащен источником формирования потока с высокой ионизацией и двумя магнитами, который обеспечивает ступенчатое нанесение плёнок (> 40% для 0,10 мкм 4: 1), с низкой центральной и боковой асимметрией (~ 1: 1). Боковые электромагниты позволяют точно настроить процесс, использовать различные типы функций и компенсировать связанные с процессом травления изменения размера объекта.
| Основные | |
|---|---|
| Производитель | Applied Materials |
| Страна производитель | США |
- Цена: Цену уточняйте
