Установка для плазмохимического газофазного осаждения Applied Materials AKT®-PX PECVD
- Под заказ
Отправка с 13 июня 2026Цену уточняйте
Решение для низкотемпературного осаждения поликристаллического кремния для AMOLED и TFT-LCD дисплеев
Линейка систем Applied AKT-PXPECVD применяется для осаждения однородного низкотемпературного поликристаллического кремния(LTPS) на стеклянные подложки размерами от 1,6 до 5,7 м2 (от 5 до 8,5 поколения). Технология LTPS является проверенным методом для создания высокопроизводительных транзисторных массивов в активных матричных OLED (AMOLED) и TFT-LCD-дисплеях сверхвысокого разрешения.
Применяемые LTPS-системы для больших размеров стеклянных подложек позволяют производителям создавать больше дисплеев на подложке или создавать более крупные дисплеи, что ускоряет переход на большие размеры экрана для мобильных устройств и телевизоров.
В AMOLED дисплеях и современных TFT-LCD для транзисторов используется поликристаллический кремний вместо аморфного кремния, который применяется в обычных ЖК-дисплеях. Более высокая электронная подвижность поликристаллического кремния позволяет транзисторам, которые контролируют каждый пиксель, быстрее переключаться, и уменьшить размеры этих транзисторов. Это позволяет создавать более яркие, более контрастные дисплеи, которые будут потреблять меньше энергии ‒то есть улучшать важнейшие характеристики для мобильного применения, где качество изображения и срок службы батареи имеют решающее значение.
| Основные | |
|---|---|
| Производитель | Applied Materials |
| Страна производитель | США |
- Цена: Цену уточняйте
