Установки и технологические решения для осаждения тонких пленок и травления HHV
- Под заказ
Отправка с 13 июня 2026Цену уточняйте
+375 (29) 370-80-76
Установки и технологические решения для осаждения тонких пленок и травления HHV
Цену уточняйте
Под заказОписание
Характеристики
Информация для заказа
Кластерные PECVD установки для НАНО Технологий:
- Нанесение аморфного и микрокристаллического кремния легированного и нет, его сплавов, диэлектриков, нитридов металлов, оксидов металлов и других материалов
- Индивидуальная рабочая камера соединена с перегрузочной/изоляционной камерой как и загрузочный шлюз
- Перемещение подложек: Магнитный / Роботизированный манипулятор
- Размер подложек: 100 - 150 мм
- Горизонтальное осаждение
- Источники питания: MF/RF/VHF/MW
- Температура подложки до 1000 °С
- Анализ остаточной атмосферы
Кластерная PECVD система
PECVD установки проходного типа для промышленного производства:
- Проходной процесс, вертикальная конфигурация
- Полная автоматизация
- Обработка двух подложек (1100х1400 мм) в камере
- Время такта 3 минуты
- Равномерность напыления +/- 10%
- Уникальная система напуска газа
- Простота в использовании
PECVD установки проходного типа для НИОКР:
- Нанесение аморфного и микрокристаллического кремния легированного и нет, его сплавов
- Индивидуальная рабочая камера отделенная изоляционной камерой вместе с шлюзами загрузки/выгрузки
- Размер подложки варьируется в зависимости от требований
Перчаточные боксы для применения в органической электронике:
- Камера испарения с источниками для органических материалов
- УФ озоновая очистка
- Нанесение фоторезиста
- Сушка
- Роботизированное нанесение клея
- Нанесение жидкостей и паст
- УФ системы отверждения
Установки RIE/PE
Однокамерные установки PECVDс возможностью реактивно-ионного травления
Камера с возможностью реактивно-ионного травления
| Основные | |
|---|---|
| Производитель | HHV |
| Страна производитель | Индия |
- Цена: Цену уточняйте
