Описание:
Системы серии VM-2200/3200 для спектроскопического измерения толщин пленок являются наиболее популярными в Японии. Модели в этой серии подходят как для измерения материала, так и для измерения тонких и многослойных пленок.
Линейка VM-2200/3200 предназначена для использования с полупроводниковыми пластинами диаметром от 75 мм до 300 мм и включает в себя полный ряд моделей от более простых, низкопроизводительных устройств до профессиональных систем высокого класса, что позволяет подобрать установку для любых производственных нужд – НИОКР или производства.
Функции
Высокая производительность
Модели серии VM-2200 способны обрабатывать до 150 полупроводниковых пластин в час в высокоскоростном режиме (в процессе пятиточечного измерения пластин SiО2).
Компактный дизайн
Модели серии VM-2200/3200 имеют эргономичный компактный дизайн, благодаря чему установка легко встраивается в имеющееся пространство, что значительно упрощает планировку производственной линии.
Простота обслуживания
Модели серии VM-2200/3200 имеют функцию регистрации событий, которая облегчает техобслуживание. Компания SCREEN на основании многолетнего опыта в полупроводниковой промышленности создала дизайн, благодаря которому проведение техобслуживания стало простым, как никогда. Системы были разработаны и произведены в Японии, доставка запасных частей осуществляется в другие страны мира, включая Россию, в максимально оперативном режиме.
Удобство и простота эксплуатации
Вы можете легко создать рецепт и ввести оптические константы благодаря опыту компании SCREEN в полупроводниковой промышленности. Программный продукт можно практически полностью контролировать с помощью мыши.
Обработка одной пластины
Систему можно настроить для единовременной обработки одной пластины.
Гибкий дизайн
Линейка VM-2200/3200 включает в себя полный ряд моделей, поэтому вы можете выбрать систему, которая подходит вам по цене и набору функций.
Характеристики
Размер пластины:
- ø75 мм,
- ø100 мм,
- ø125 мм,
- ø150 мм,
- ø200 мм,
- ø300 мм
Функции измерения
- Измерение толщины однослойной и двухслойной пленки (стандартная программа: помимо 25 предварительно загруженных типов, пользователь может ввести характеристики дополнительных пленок)
- Возможна одновременная обработка до четырех образцов слоев пленок.
- Измерение коэффициента спектрального отражения
- Хранение и управление данными измерения
- Трехмерное картирование и отображение данных измерений, исправление значений толщины пленки, гистограммное отображение, функции статистической обработки и т.д.
- Заданные пользователем типы пленок
Диапазон измерения
- VM-2210/3210 : от 10 нм до 20,000 нм
- VM-2230/3230 : от 2 нм до 20,000 нм
*При необходимости проведения измерений свыше 20.000 нм, пожалуйста, свяжитесь с представителем компании.
Воспроизводимость измерений (ð)
- 0.1 нм (толщина пленки: от 10 нм до 3,000 нм)
- 0.03 % (толщина пленки: от 10 нм до 10 мкм)
- 0.2 % (толщина пленки: от 3 мкм до 20 мкм; метод P&V)
Размер пятна измерения
- VM-2210/3210: ø 20 мкм, ø 10 мкм, ø 5 мкм, ø 2 мкм (опция)
- VM-2230/3230: ø 13.4 мкм, ø 4 мкм (опция)
Диапазон длин волн
- VM-2210/3210: от 400 нм до 800 нм
- VM-3210/3230: от 200 нм до 800 нм
Основные опции
- Система транспортировки тонких пластин: 100 мкм
- Измерение толстых пленок: 100 мкм
- Функция распознавания изображения
- Главный компьютер в онлайн-режиме
- Измерение борозд
- FOUP/SMIF
- Навесная лампа
| Основные | |
|---|---|
| Страна производитель | Япония |
- Цена: Цену уточняйте


Отправка с 13 июня 2026