Система спектроскопического измерения толщины пленки SCREEN VM-1020/1030

Описание:

Установки серии VM-1020/1030 представляют собой экономичный настольный вариант системы спектроскопического измерения толщины пленки.

Модели серии VM-1020/1030 имеют доступную цену и обеспечивают высокую скорость и точность измерения толщины пленки, быстроту вычислений с мгновенным отображением результатов измерений. 

Функции:

• Система разделена на две секции: микроскоп и спектрометр, которые включают в себя блок с линзами объектива, ручной XY столик для образцов, электрический револьвер для объективов, фильтры и подсветку.
• Используемый волоконно-оптический вход ПЗС спектрометра позволяет принять отраженный от поверхности образца свет и измерить его параметры одновременно на всех длинах волн видимого света, что обеспечивает высокую скорость и точность измерения толщины пленки.
• Фотометрия по всей длине волны и высокая производительность компьютера обеспечивает быстроту вычислений с мгновенным отображением толщины измеряемой пленки.
• Использование функция мастера рецептов значительно упрощает работу создания рецептов измерений.

Характеристики:

• Размеры пластин: ⌀50 мм, ⌀75 мм, ⌀100 мм, ⌀125 мм, ⌀150 мм, ⌀200 мм

 
Возможности:

• Измерение до 25 типов слоев пленок (29 для моделей с УФ-подсветкой)
• Измерение спектральной отражательной способности
• Регистрация типов пленок
• Трехмерное картирование измеренных данных и другой статистической информации
• Одновременное многоуровневое измерение (до 4 слоев)
• Расчет скорости травления

 
VM-1020/1030

Размер пятна

• ø20 мкм (объектив с 5-кратным увеличением)                   
• ø10 мкм (объектив с 10-кратным увеличением) 
• ø5 мкм (объектив с 20-кратным увеличением)                 
• ø2 мкм (объектив с 50-кратным увеличением) (опция)

Диапазон измерения

от 10 нм до 20 мкм (при измерении SIO2 на Si с помощью объектива с 10-кратным увеличением)

Время измерения

1 сек. или меньше  (при измерении SIO2 на Si с помощью объектива с 10-кратным увеличением)

Воспроизводимость (ð)         

0,1 нм (толщина пленки: от 10 нм до 3 000 нм)                          
0,03 % (толщина пленки: от 10 нм до 10 мкм)                                              
0,2 % (толщина пленки: от 3 мкм до )