Описание
Характеристики
Информация для заказа
Описание:
Магнетронное напыление с помощью постоянного (DC) и ВЧ (RF) тока, комбинированное (DC/RF) напыление, напыление с помощью постоянного тока в режиме пульсации. Позволяет проводить плазменную очистку подложек в загрузочном шлюзе, что предотвращает загрязнение процессной камеры.

Основные возможности:
- До 5 магнетронных источников – DC, RF, DC/RF, DC в режиме пульсации
- Напыление металлов, диэлектриков и TCO пленок
- Модульная конструкция подложкодержателя позволяет быстро переоснащать систему под подложки различных типоразмеров
- Возможность напыления через жесткие маски, минуя процесс литографии
- Опция автоматической загрузки/выгрузки подложек из кассеты в кассету
- Опция сканера штрих-кодов для полностью автоматизированного производства
- ПО с дружественным интерфейсом, позволяющее пошагово отслеживать и создавать процесс от откачки до напуска
| Основные | |
|---|---|
| Производитель | Evatec |
| Страна производитель | Швейцария |
| Пользовательские характеристики | |
| Дополнительный сервис | Установка |
- Цена: Цену уточняйте






Отправка с 13 июня 2026