Компактная система атомно-слоевого осаждения (ALD) с открытой загрузкой Oxford Instruments OpAL
- Под заказ
Отправка с 13 июня 2026Цену уточняйте
+375 (29) 370-80-76
Компактная система атомно-слоевого осаждения (ALD) с открытой загрузкой Oxford Instruments OpAL
Цену уточняйте
Под заказОписание
Характеристики
Информация для заказа
OpAL представляет собой уникальную для современного рынка систему термического ALD с возможностью модернизации до плазменного процесса ALD и позволяет проводить оба вида осаждения в одной компактной установке. Существует возможность обработки малых образцов произвольной формы, а также пластин диаметром 200 мм.
Технологические особенности системы:
- открытая загрузка пластин
- возможность установки перчаточной камеры для предотвращения попадания влаги при загрузке пластин
- возможность размещения и использования до 4 прекурсоров
- наличие съемных вкладышей для быстрой чистки вакуумной камеры
- порт для эллипсометра
- безопасный пневматический привод открытия вакуумной камеры
Химические соединения, доступные для термического осаждения:
- Оксиды: HfO2, Al2O3, TiO2, SiO2, ZnO, Ta2O5
- Нитриды: TiN, Si3N4
- Металлы: Ru, Pt
| Основные | |
|---|---|
| Производитель | Oxford Instruments |
| Страна производитель | Великобритания |
- Цена: Цену уточняйте
