Cистема атомно-слоевого осаждения (ALD) со шлюзовой камерой Oxford Instruments FlexAL
- Под заказ
Отправка с 13 июня 2026Цену уточняйте
Семейство систем FlexAL компании Oxford Instruments Plasma Technology предоставляет новые возможности в разработке наноразмерных структур и приборов, реализуя процессы атомно-слоевого осаждения с удаленной плазмой и термическое ALD в составе одной системы. Процесс атомно-слоевого осаждения самолимитированный, т.е. после достижения моноатомной толщины пленки процесс останавливается.
Технологические особенности системы:
- максимальная гибкость в выборе материалов и подложек
- низкотемпературные процессы, обусловленные наличием удаленной плазмы
- быстродействующая система подачи газа (t<10мс)
- высокопроизводительная система откачки, для быстрой смены среды в камере
- повторяемость процессов ~1%
- равномерность по 200 мм пластине <2%
- отличное покрытие структур с высоким аспектным соотношением
- возможность объединяться в кластер с другими системами OIPT
- высокое пробойное напряжение
- низкая дефектность
- низкое сопротивление проводящих нитридов и металлов
Для осаждения каждой пленки необходимо использовать специальный прекурсор. Рассмотрим эту технологию на примере осаждения оксида алюминия на кремниевую подложку, который проходит в 4 этапа (см. рис.):
1) 2) 3) 4)
На первом этапе вы, с помощью быстродействующей системы подачи газа, напускаете в рабочую камеру прекурсор - триметилалюминий (TMA), который реагирует с поверхностью, образуя оксид алюминия с двумя метильными группами. Далее – продувка инертным газом. Третьим этапом происходит напуск кислорода в камеру с поджигом плазменного разряда. Активированный кислород реагирует с алюминием, ОН-группа вытесняет метильные группы и после еще одной продувки мы имеем слой оксида алюминия и ОН-группой. Далее эти циклы повторяются и у нас получается Al2O3
| Основные | |
|---|---|
| Производитель | Oxford Instruments |
| Страна производитель | Великобритания |
- Цена: Цену уточняйте
