Начать продавать на Deal.by
Корзина
Нет отзывов, добавить
+375 (29) 370-80-76
Корзина

Электронно-лучевой литограф Raith VOYAGER

Электронно-лучевой литограф Raith VOYAGER
  • Под заказ
clockОтправка с 13 июня 2026

Цену уточняйте

+375 (29) 370-80-76

Заказ только по телефону

Электронно-лучевой литограф Raith VOYAGERЭлектронно-лучевой литограф Raith VOYAGER
Цену уточняйте
Под заказ
+375 (29) 370-80-76
Описание
Характеристики
Информация для заказа

Описание:

VOYAGER – это новый прибор класса высокопроизводительных электронно-лучевых литографов; построен на инновационной технологии Raith eWrite. 

Рекомендован в областях, связанных как с серийным производством, так и с научно-исследовательскими работами, где требуется высокая производительность и максимум пространственного разрешения. Инновационная архитектура и высокие показатели спецификации разработаны для получения точных результатов при высокой скорости экспонирования и при весьма низкой стоимости владения прибором. VOYAGER, таким образом, снижает барьер для доступа в сферу профессиональной, ориентированной на высокую производительность электронно-лучевой литографии. 

VOYAGER – первая система, в которой реализована новая технология Raith eWrite. eWrite объединяет в себе специализированную «выделенную» архитектуру электронно-лучевой колонны и паттерн-генератора, позволяющую осуществлять автоматизацию калибровок системы и высокую скорость при серийном производстве. 

 

Концепцию VOYAGER подчеркивает: 

  • инновационная архитектура системы 
  • сниженные требования к условиям эксплуатации в помещении и малое занимаемое пространство 
  • производительность экспонирования более 1 см2/час 
  • невысокая стоимость владения 

 

VOYAGER  разработан для обеспечения высокой скорости экспонирования с автоматизированной системой калибровки «на лету» при сохранении максимальной точности и разрешения. Это обеспечивает быстрый поток образцов от проектирования до выгрузки готового образца. Интегрированное программное обеспечение Raith NANOSUITE является интуитивно понятной платформой и предоставляет даже новым пользователям полноценный контроль всего процесса ЭЛЛ.

VOYAGER  позволяет осуществлять литографирование как на образцах малых площадей, так и работу на пластинах размером вплоть до 8 дюймов. 

Архитектура VOYAGER была построена в соответствие с важными требованиями пользователей к производительности и на основе обратной связи заказчиков Raith. Благодаря smart-интеграции в окружающую среду, защитный кожух VOYAGER делает возможным работу в широком диапазоне вариации температуры окружающей среды лабораторных помещений и уровня шума. Экспонирование можно проводить с ультра-высоким, суб-10 нм разрешением при работе на пластинах вплоть до 8 дюймов. В добавок к функционалу ЭЛЛ, VOYAGER обладает режим РЭМ-изображения с высоким разрешением и разнообразными функциями метрологии и инспекции результатов.

VOYAGER предоставляет инновации как в архитектуре системы, так и в реализации приложений. Инновационные стратегии экспонирования, такие как режимы сшивки с нулевой ошибкой (traxx и periodixx) или FLEXposure (гибкие режимы направленного сканирования), самая современная электростатическая архитектура электронно-лучевой колонны и низко-шумная электроника дают отличные результаты и расширяют потенциал электронно-лучевой литографии. VOYAGER подготовлен к задачам ЭЛЛ будущего.

 

Скорость и высокая производительность

Электронная оптика обеспечивает ток пучка до 40 нА. Большое поле экспонирования, 500 мкм, снижает необходимость в частых перемещениях стола и большом количестве сшивок. Паттерн-генератор 50 МГц построен в соответствии с последними стандартами в области дизайна электроники. Его высокоэффективный поток данных полностью решает проблемы применения в фотонике и оптике, где требуется оперировать большим комплексным массивом данных. VOYAGER способен экспонировать 1 см2 комплексных данных растрового массива в оттенках серого менее чем 1 час!

  • Интуитивно понятная оболочка Windows® 7
  • Автоматическая фокусировка и настройка стигматора
  • Преднастройки в один клик для высокого разрешения или высокой пропускной способности (например, элементы структур большого размера)
  • Комплексная единая оболочка Raith NANOSUITE с GDS II CAD редактором
  • Коррекция эффекта близости
  • До 500 мкм поля экспонирования с динамическими коррекциями в реальном времени
  • Самое современное поколение архитектуры электростатических дефлекторов 
  • Паттерн-генератор 50 МГц
  • Более 1 см2 / ч (при 50% заполнении)
  • Более 50 инженеров поддержки по всему миру 
  • Автоматическое переключение между режимами пропускной способности и высокого разрешения

 

Экономичная в эксплуатации.

  • Защитный кожух экономит затраты на микроклимат в лабораторных помещениях в течение всего жизненного цикла прибора
  • Компактность, чтобы сохранить дорогостоящее лабораторное пространство
  • Загрузка образца через стенку (split-room setup) позволяет установку системы вне пространства дорогостоящих чистых комнат
  • Встроенная функция визуализации с высоким разрешением, навигация по образцу 
  • Экономически выгодная замена катода вместо катодного узла (пушки) части колонны 
  • Гибкая схемы обслуживания и поддержки поможет сохранить стоимость владения низкой


Split-room setup

 

Инновационные и уникальные методы экспонирования

Стандартный режим пошагового и повторяющегося экспонирования подразумевают ошибки сшивки полей и ошибки наложения полей. Этого можно полностью избежать, выбрав уникальные методы Raith непрерывного и бесшовного экспонирования traxx и periodixx, используя разработанную Raith технологию экспонирования лазерным интерферометрическим столиком при фиксированном луче (FBMS) и экспонирования лазерным интерферометрическим столиком при модулированном пучке (MBMS). Качество получаемых структур и устройств, особенно в оптических и оптоэлектронных применениях, таких как: решетки большой площади, френелевские линзы, волноводы или фотонные кристаллы, - может быть значительно улучшено. 

 

 

Нанолитография FBMS (traxx).
Оптические волноводные структуры шириной 450 нм в кремнии 
(R. Schmits, TNO Delft, The Netherlands)

 

Опция periodixx (MBMS)

    
    

Экспонирование сложных форм и сверхмалых наноструктур может требовать специфических стратегий для оптимальной точности и расположения рисунка. Режимы Raith FLEXposure направленного сканирования помогают оптимизировать и значительно улучшить воспроизводимость запроектированных форм, особенно в отношении к нанометровым величинам производственных допусков. 

 


FLEXposure. 
Каждому элементу дизайна в GDS II 
может быть сопоставлен выбираемый пользователем 
метод экспонирования. 
5 основных методов и 47 подрежимов.

 

Основные применения

  • Высокая скорость прямого экспонирования (direct write) 
  • Дифракционные оптические элементы 
  • Оптические структуры для элементов защиты от подделок 
  • Серийное производство полупроводниковых приборов 

 

Слайд1.JPG

         3.jpg

Суб- 7 нм линии в резисте HSQ 

(Raith GmbH, Dortmund)

Центральная часть линзы Френеля размером 1х1 см2 в резисте SU-8; 

проэкспонировано за 53 минуты (Raith GmbH, Dortmund)

4.jpg

S32.jpg

Экспонированные в резисте ZEP 520а линии 

решетки площадью 1х1 см2 . 

Время экспонирования менее 2 часов 

(Raith GmbH, Dortmund)

Автоматическое переключение режимов пропускной способности 

в высокое разрешение 

(структуры 160 мкм – на 40 нА, структуры 10 нм – на 0.4 нА, 

Raith GmbH, Dortmund)

S23.jpg

S22.jpg

Тест-структура широкого затвора 

на двухслойном резисте 

(Raith GmbH, Dortmund)

Фотонно-кристаллический волновод в ZEP 520a 

(Thomas Krauss, University of York, UK)

 

Технические характеристики:

Лазерный интерферометрический стол и точности сшивки/наложения

  • Перемещение 6 дюймов (работа на пластинах до 8 дюймов) 
  • Точность сшивки полей и наложения полей <25 нм (среднее значение + 3 сигма) 

Единичное поле экспонирования

500 мкм; 
Динамические коррекции в реальном времени

Электронно-оптическая колонна

  • Автоэмиссионный катод Шоттки 
  • Электростатическая колонна 
  • SE-ET детектор вторичных электронов 
  • Детектор обратно-рассеянных электронов ASB (опция) 
  • Стабильность позиции пучка <200 нм/8 час 
  • Стабильность тока пучка: дрейф <0,5% / 1 час 

Энергия луча

до 50 кэВ

Зондовый ток

50 пА – 40 нА

Режимы и характеристики

  • Адаптивные гибкие схемы распознавания маркеров выравнивания 
  • Разрешение 18 бит на образце (20 бит опция) 
  • Режимы FLEXposure, traxx (опция), periodixx (опция) 
  • Коррекция эффекта близости 
  • Литография в 3D (опция) 

Минимальный размер получаемой структуры/линии

< 10 нм

Минимальный размер периода решетки

< 40 нм

Генератор развертки

50 МГц

 

Дополнительное оборудование:

  • Интегрируемый модуль наклона и поворота образца 
  • Активная платформа виброподавления, активная система подавления шумов магнитного поля 
  • Automatic Height Sensing 

 

Программное обеспечение:

Raith Nanosuite. Стандарт GDSII. Единый модуль дизайна CAD-объектов с привязкой к слоям, параметрам экспонирования, контролем позиционирования в системе координат образца, контролем колонны, скриптингом, макросами, автоматизацией, режимами “FLEXposure” и т.д., коррекцией эффекта близости, литографией в 3D.

 

Основные
Производитель Raith
Страна производительГермания
  • Цена: Цену уточняйте