Описание:
VOYAGER – это новый прибор класса высокопроизводительных электронно-лучевых литографов; построен на инновационной технологии Raith eWrite.
Рекомендован в областях, связанных как с серийным производством, так и с научно-исследовательскими работами, где требуется высокая производительность и максимум пространственного разрешения. Инновационная архитектура и высокие показатели спецификации разработаны для получения точных результатов при высокой скорости экспонирования и при весьма низкой стоимости владения прибором. VOYAGER, таким образом, снижает барьер для доступа в сферу профессиональной, ориентированной на высокую производительность электронно-лучевой литографии.
VOYAGER – первая система, в которой реализована новая технология Raith eWrite. eWrite объединяет в себе специализированную «выделенную» архитектуру электронно-лучевой колонны и паттерн-генератора, позволяющую осуществлять автоматизацию калибровок системы и высокую скорость при серийном производстве.
Концепцию VOYAGER подчеркивает:
- инновационная архитектура системы
- сниженные требования к условиям эксплуатации в помещении и малое занимаемое пространство
- производительность экспонирования более 1 см2/час
- невысокая стоимость владения
VOYAGER разработан для обеспечения высокой скорости экспонирования с автоматизированной системой калибровки «на лету» при сохранении максимальной точности и разрешения. Это обеспечивает быстрый поток образцов от проектирования до выгрузки готового образца. Интегрированное программное обеспечение Raith NANOSUITE является интуитивно понятной платформой и предоставляет даже новым пользователям полноценный контроль всего процесса ЭЛЛ.
VOYAGER позволяет осуществлять литографирование как на образцах малых площадей, так и работу на пластинах размером вплоть до 8 дюймов.
Архитектура VOYAGER была построена в соответствие с важными требованиями пользователей к производительности и на основе обратной связи заказчиков Raith. Благодаря smart-интеграции в окружающую среду, защитный кожух VOYAGER делает возможным работу в широком диапазоне вариации температуры окружающей среды лабораторных помещений и уровня шума. Экспонирование можно проводить с ультра-высоким, суб-10 нм разрешением при работе на пластинах вплоть до 8 дюймов. В добавок к функционалу ЭЛЛ, VOYAGER обладает режим РЭМ-изображения с высоким разрешением и разнообразными функциями метрологии и инспекции результатов.
VOYAGER предоставляет инновации как в архитектуре системы, так и в реализации приложений. Инновационные стратегии экспонирования, такие как режимы сшивки с нулевой ошибкой (traxx и periodixx) или FLEXposure (гибкие режимы направленного сканирования), самая современная электростатическая архитектура электронно-лучевой колонны и низко-шумная электроника дают отличные результаты и расширяют потенциал электронно-лучевой литографии. VOYAGER подготовлен к задачам ЭЛЛ будущего.
Скорость и высокая производительность
Электронная оптика обеспечивает ток пучка до 40 нА. Большое поле экспонирования, 500 мкм, снижает необходимость в частых перемещениях стола и большом количестве сшивок. Паттерн-генератор 50 МГц построен в соответствии с последними стандартами в области дизайна электроники. Его высокоэффективный поток данных полностью решает проблемы применения в фотонике и оптике, где требуется оперировать большим комплексным массивом данных. VOYAGER способен экспонировать 1 см2 комплексных данных растрового массива в оттенках серого менее чем 1 час!
- Интуитивно понятная оболочка Windows® 7
- Автоматическая фокусировка и настройка стигматора
- Преднастройки в один клик для высокого разрешения или высокой пропускной способности (например, элементы структур большого размера)
- Комплексная единая оболочка Raith NANOSUITE с GDS II CAD редактором
- Коррекция эффекта близости
- До 500 мкм поля экспонирования с динамическими коррекциями в реальном времени
- Самое современное поколение архитектуры электростатических дефлекторов
- Паттерн-генератор 50 МГц
- Более 1 см2 / ч (при 50% заполнении)
- Более 50 инженеров поддержки по всему миру
- Автоматическое переключение между режимами пропускной способности и высокого разрешения
Экономичная в эксплуатации.
- Защитный кожух экономит затраты на микроклимат в лабораторных помещениях в течение всего жизненного цикла прибора
- Компактность, чтобы сохранить дорогостоящее лабораторное пространство
- Загрузка образца через стенку (split-room setup) позволяет установку системы вне пространства дорогостоящих чистых комнат
- Встроенная функция визуализации с высоким разрешением, навигация по образцу
- Экономически выгодная замена катода вместо катодного узла (пушки) части колонны
- Гибкая схемы обслуживания и поддержки поможет сохранить стоимость владения низкой

Split-room setup
Инновационные и уникальные методы экспонирования
Стандартный режим пошагового и повторяющегося экспонирования подразумевают ошибки сшивки полей и ошибки наложения полей. Этого можно полностью избежать, выбрав уникальные методы Raith непрерывного и бесшовного экспонирования traxx и periodixx, используя разработанную Raith технологию экспонирования лазерным интерферометрическим столиком при фиксированном луче (FBMS) и экспонирования лазерным интерферометрическим столиком при модулированном пучке (MBMS). Качество получаемых структур и устройств, особенно в оптических и оптоэлектронных применениях, таких как: решетки большой площади, френелевские линзы, волноводы или фотонные кристаллы, - может быть значительно улучшено.
|
|
|
| Нанолитография FBMS (traxx). Оптические волноводные структуры шириной 450 нм в кремнии (R. Schmits, TNO Delft, The Netherlands) |
Опция periodixx (MBMS) |
Экспонирование сложных форм и сверхмалых наноструктур может требовать специфических стратегий для оптимальной точности и расположения рисунка. Режимы Raith FLEXposure направленного сканирования помогают оптимизировать и значительно улучшить воспроизводимость запроектированных форм, особенно в отношении к нанометровым величинам производственных допусков.

FLEXposure.
Каждому элементу дизайна в GDS II
может быть сопоставлен выбираемый пользователем
метод экспонирования.
5 основных методов и 47 подрежимов.
Основные применения
- Высокая скорость прямого экспонирования (direct write)
- Дифракционные оптические элементы
- Оптические структуры для элементов защиты от подделок
- Серийное производство полупроводниковых приборов
|
|
|
|
Суб- 7 нм линии в резисте HSQ (Raith GmbH, Dortmund) |
Центральная часть линзы Френеля размером 1х1 см2 в резисте SU-8; проэкспонировано за 53 минуты (Raith GmbH, Dortmund) |
|
|
|
|
Экспонированные в резисте ZEP 520а линии решетки площадью 1х1 см2 . Время экспонирования менее 2 часов (Raith GmbH, Dortmund) |
Автоматическое переключение режимов пропускной способности в высокое разрешение (структуры 160 мкм – на 40 нА, структуры 10 нм – на 0.4 нА, Raith GmbH, Dortmund) |
|
|
|
|
Тест-структура широкого затвора на двухслойном резисте (Raith GmbH, Dortmund) |
Фотонно-кристаллический волновод в ZEP 520a (Thomas Krauss, University of York, UK) |
Технические характеристики:
|
Лазерный интерферометрический стол и точности сшивки/наложения |
|
|
Единичное поле экспонирования |
500 мкм; |
|
Электронно-оптическая колонна |
|
|
Энергия луча |
до 50 кэВ |
|
Зондовый ток |
50 пА – 40 нА |
|
Режимы и характеристики |
|
|
Минимальный размер получаемой структуры/линии |
< 10 нм |
|
Минимальный размер периода решетки |
< 40 нм |
|
Генератор развертки |
50 МГц |
Дополнительное оборудование:
- Интегрируемый модуль наклона и поворота образца
- Активная платформа виброподавления, активная система подавления шумов магнитного поля
- Automatic Height Sensing
Программное обеспечение:
Raith Nanosuite. Стандарт GDSII. Единый модуль дизайна CAD-объектов с привязкой к слоям, параметрам экспонирования, контролем позиционирования в системе координат образца, контролем колонны, скриптингом, макросами, автоматизацией, режимами “FLEXposure” и т.д., коррекцией эффекта близости, литографией в 3D.
| Основные | |
|---|---|
| Производитель | Raith |
| Страна производитель | Германия |
- Цена: Цену уточняйте


Отправка с 13 июня 2026






