Электронно-лучевой литограф Raith EBPG5200 / EBPG5150

Описание:

Raith EBPG – высокопроизводительный электронно-лучевой литограф, рассчитанный на работу с пластинами до 200 мм. 

EBPG – это установка мирового стандарта качества, которая зарекомендовала себя и является предпочтительным выбором заказчиков как в серийном производстве в микроэлектронике, так и в ведущих научно-исследовательских центрах компетенции университетского уровня. 

Эволюционная технология EBPG представляет пользователям наиболее мощный и современный из существующих на рынке приборов нанолитографии гауссовым пучком. Высокие показатели спецификации и эффективность работы являются результатом многолетней эволюции серии EBPG и внедрения обратной связи пользователей для максимальной оптимизации технологии. Стабильность, высокая производительность и возможность апгрейда EBPG обеспечивают заказчику гарантию надежного инвестирования, готовность и передовую позицию в производстве сегодняшнего дня и разработке технологий будущего.

EBPG разработан в соответствие с многочисленными требованиями как различных задач прямой нанолитографии, так и особенностей изготовления высокоточных масок-фотошаблонов для нужд R&D.

EBPG5200

Высокопроизводительная система нанолитографии на площадях до 200 мм. Будучи самой быстрой системой в своем классе приборов, EBPG5200 обладает скоростью паттерн-генератора до 100 МГц, полной автоматизацией работы системы, высоким пространственным разрешением в литографии на больших полях экспонирования и малым занимаемым пространством чистых комнат. EBPG5200 является наилучшим выбором для достижения самых передовых результатов в нанолитографии и изготовлении фотошаблонов для R&D

В сфере индустрии, EBPG – ключевая технология, которая открывает возможность производства современных оптоэлектронных и транзисторных структур на полупроводниках типа А3Б5. Множество систем EBPG применяются заказчиками в режиме 24/7, где основным безусловным требованием является высокая степень стабильности и воспроизводимости результатов. EBPG5200 обеспечивает минимальный размер структур <10 нм даже в большом поле экспонирования до 1 мм. Позволяя работать на площадях до 200 мм и предоставляя возможность точной подвижки по Z (Z-lift, опционально), EBPG5200 обеспечивает как легкость работы с образцами малого размера, так и готовность к применениям будущего в 3D. 

EBPG5150

Оптимизирован для всех приложений нанолитографии, рассчитанных на площади вплоть до 155 х 155 мм. Система использует единый стандарт всех составных частей совместно с серией 5200 и обеспечивает такие же пространственное разрешение, автоматизацию и производительность. EBPG5150 позволяет работать с широким диапазоном размеров образца – как с частями пластин, так и с пластинами вплоть до 6”.

Система обеспечена такой же стратегией апгрейдов, как и в случае EBPG5200, предоставляя скорость паттерн-генератора 100 МГц, увеличенный размер поля экспонирования и скорости стола, больший шлюзовой загрузчик образца. Все это дает заказчикам, как академической сферы, так и сферы индустрии, возможность работы с наиболее современной автоматизированной системой электронно-лучевой литографии. 

Автоматическая калибровка системы  

• Установки электронной оптики 
• Осевой и внеосевой фокус; коррекция астигматизма 
• Коррекции дисторсии поля 

Высокая производительность в сочетании с высокой точностью

• Высокий зондовый ток (>200 нА) 
• Высокая скорость дефлекторов (100 МГц) 
• Большое единичное поле экспонирования (до 1 мм) 
• Высокая скорость стола 
• Минимизированное время простоя паттерн-генератора (overhead) 
• Оптимизированные стратегии экспонирования 
• Работа системы в полностью автоматическом режиме, без оператора 
• Многопользовательский интерфейс 
• Высокая точность сшивки полей и наложения полей 
• Высокое пространственное разрешение получаемых структур 
• Различные варианты держателей образцов как малого размера, так и стандартных пластин 
• Полностью автоматическое экспонирование пластин 
• Полностью автоматический загрузчик на 10 держателей 
• Детальное обучение, консультации по применениям, сервисная поддержка в течение всего жизненного цикла прибора 

Основные применения:

• Высокое ускоряющее напряжение для наноструктур с большим аспектным соотношением 
• Высокая скорость прямого экспонирования (direct write) 
• Серийное производство, напр., в сфере сложных полупроводниковых структур и приборов 
• Оптические структуры для элементов защиты от подделок 

Технические характеристики

EBPG

• 100 kV 

Программное обеспечение

• GenISys