Начать продавать на Deal.by
Корзина
Нет отзывов, добавить
+375 (29) 370-80-76
Корзина

Электронно-литографическая приставка для микроскопа Raith Elphy Quantum

Электронно-литографическая приставка для микроскопа Raith Elphy Quantum
  • Под заказ
clockОтправка с 13 июня 2026

Цену уточняйте

+375 (29) 370-80-76

Заказ только по телефону

Электронно-литографическая приставка для микроскопа Raith Elphy QuantumЭлектронно-литографическая приставка для микроскопа Raith Elphy Quantum
Цену уточняйте
Под заказ
+375 (29) 370-80-76
Описание
Характеристики
Информация для заказа

Описание:

Электронно-литографическая приставка для растрового электронно-лучевого или ионно-лучевого микроскопа - универсальное бюджетное решение, позволяющее оборудовать РЭМ базовыми возможностями электронно-лучевой литографии (дизайн паттернов, работа с параметрами экспонирования, возможность выравнивания по маркерам при наложении литографических слоев для процессов типа step&repeat). Мультиплицирующие цифро-аналоговые преобразователи позволяют получать высокую точность  калибровки координат внутри поля экспонирования.

ELPHY Quantum – специально разработанный 16-битный аппаратный модуль, позволяющий работать на скоростях цифро-аналоговых преобразователей вплоть до 6 МГц. Модуль интегрирован в соответствующий последнему слову техники управляющий компьютер с программной средой Windows. 

 

Технология

  • Raith

 

Программное обеспечение

Raith Nanosuite. Стандарт GDSII. Единый модуль дизайна CAD-объектов с привязкой к слоям, параметрам экспонирования, контроль позиционирования в системе координат образца, коррекция эффекта близости, литография в 3D, многопользовательский интерфейс

 

Технические характеристики

Скорость экспонирования

6 МГц

Управляющие сигналы (TTL)

  • Управление электростатическим бланкером
  • Включение внешнего управления сканированя пучками РЭМ/ФИП
  • Запрос на управление сканирования РЭМ/ФИП внешним устройством 

Цифроаналоговые преобразователи

  • 16 бит
  • 2 х 3 мультиплицирующих ЦАП для сверхвысокоточного выравнивания и калибровки размеров в поле экспонирования

Режимы и характеристики

  • Редактор GDSII с интегрированной иерархической структурой; обсчет и привязка параметров экспонирования; скриптинг (VB), создание макросов
  • Импорт форматов AutoCAD DXF, ASCII, CIF
  • Режим захвата изображения
  • Измерение ширины линии
  • Удаленный контроль РЭМ/ФИП, модуль ФИП
  • “Offline” лицензии программного обеспечения
  • Коррекция эффекта близости (опционально)
  • Литография в 3D

 

Основные
Производитель Raith
Страна производительГермания
  • Цена: Цену уточняйте