Начать продавать на Deal.by
Корзина
Нет отзывов, добавить
+375 (29) 370-80-76
Корзина

Ионно-лучевой литограф Raith ionLINE

Ионно-лучевой литограф Raith ionLINE
  • Под заказ
clockОтправка с 13 июня 2026

Цену уточняйте

+375 (29) 370-80-76

Заказ только по телефону

Ионно-лучевой литограф Raith ionLINEИонно-лучевой литограф Raith ionLINE
Цену уточняйте
Под заказ
+375 (29) 370-80-76
Описание
Характеристики
Информация для заказа

Описание:

Литографическая рабочая станция ionLiNE представляет собой новый класс ионно-лучевых систем. ionLiNE - это результат разработок международного европейского проекта NanoFIB - высокостабильной ионно-лучевой колонны - и многолетнего опыта компании Raith в проектировании и разработке прецизионных электронно-литографических систем. Для ionLiNE характерны высокая стабильность параметров пучка, возможность работы при низких дозах, высокое пространственное разрешение (как в режиме получения изображений, так и при обработке), высокая точность позиционирования и малый дрейф образца. Cтабильность параметров системы и применение методов автоматической корректировки (дрейфа, фокусировки) позволяет осуществлять длительную работу с образцами как малой, так и большой площади поверхности.

 

Особенности:

  • В систему интегрирован предметный стол, контролируемый лазерным интерферометром, что обеспечивает точность позиционирования 1-2 нм. При этом имеется функция наклона и поворота.
  • Программное обеспечение позволяет реализовать широкий диапазон техник литографирования и прямой обработки поверхности ионным пучком, включая локальное травление и осаждение материалов.
  • В системе управления комплексом реализован многопользовательский подход, что немаловажно для автоматизации работы в междисциплинарных центрах и центрах общего пользования при эксплуатации прибора несколькими операторами.
  • Рабочая станция ionLiNE обеспечивает выполнение самых сложных литографических задач с максимально высокой точностью и воспроизводимостью: сшивка и выравнивание полей экспонирования, многослойная литография с высокоточным наложением (включая метод mix&match),задачи типа step&repeat, бесшовное рисование объектов с высоким аспектным соотношением – например, световодов для волновой оптики шириной в десятки нанометров и длиной до нескольких сантиметров с помощью уникальной технологии рисования высокоточным столиком при неподвижном пучке.
  • Система ionLiNE предоставляет возможность как работы на плоских образцах (2D) , например, пластин диаметром вплоть до 6 дюймов, так и на образцах с выраженной топографией (3D). Одна из ключевых особенностей ionLiNE – это трехмерная литография как с помощью специальных резистов, так и методами прямой обработки образца ионным пучком.
  • Возможности ionLiNE могут быть расширены с помощью комплектации системы наноманипуляторами, газовой инжекционной системой, оптическим макроскопом, шлюзом.

 

Технология

  • NanoFIB

 

ПО

Raith Nanosuite. Стандарт GDSII. Единый модуль дизайна CAD-объектов с привязкой к слоям, параметрам экспонирования, контроль позиционирования в системе координат образца, скриптинг, автоматизация, “Live process monitor”, “DirectAlignDesign”, “Flexposure”.

 

 

Raith ionLINE_1.jpg

Автоматическая сшивка полей экспонирования; высокоточное травление ионным пучком в трехмерном режиме. (Изображение: секция микрофлюидного канала-миксер длиной 1 мм в стекле)

Raith ionLINE_3.jpg

Откалиброванный генератор развертки впервые позволяет получать сверхточные структуры даже при длительном общем времени экспонирования. (Изображение: секция зонной пластины 100 мкм в диаметре в золоте на 500-нм мембране, ширина внешних полос 100 нм. Процесс в автоматическом режиме в течение 15 часов выполнен с допусками по позиционированию элементов лучше 20 нм)

Raith ionLINE_4.jpg

Режимы экспонирования “Flexposure” и ультраточный контроль доз теперь позволяют получить самые прецизионные структуры на самых неустойчивых к ионному лучу материалах.

Raith ionLINE_2.jpg

Стыковка полей на больших площадях с минимальной ошибкой сшивки (изображение: решетки разных периодов (порядка 1 мкм); общий размер структуры 3х4 мм)

 

Технические характеристики

Лазерный интерферометрический стол

  • 100х100 мм
  • Точность сшивки полей и наложения полей на больших площадях порядка 10 нм (среднее значение)
  • Совместимость с 5 осями, поддержка работы в 3Д режиме, поддержка режима контроля качества

Ионная колонна

  • Центрированная конфигурация ионного луча
  • Малая оптическая длина и рабочее расстояние, оптимизированные для высокого разрешения
  • Оптимизированная фокусировка пучка (низкоинтенсивные края и хвосты пятна, равномерное распределение интенсивности в пятне)
  • Долговременная стабильность тока пучка
  • Непревзойденная точность позиционирования луча на образце

Минимальная ширина линии осаждения

< 60 нм

Энергия луча

от 15 до 40 кВ

Зондовый ток

от 0.5 пА до 1 нА

Режимы и характеристики

  • Оптимизированный режим работы на низких токах с сохранением высоких рабочих показателей
  • Полная автоматизация всех операций, автоматическое выравнивание, коррекция дрейфа, e-mail отчет текущего статуса процесса.
  • GDSII
  • “Live process monitor”
  • “DirectAlignDesign”
  • “Flexposure”

Минимальная ширина линии травления

< 10 нм

Пространственное разрешение

«Истинное» разрешение 5 нм в режиме изображения

 

Дополнительное оборудование

  • Система газовой химии на 5 линий. Полный спектр газообразных реактивов-прекурсоров.
  • Установка до 2х микроманипуляторов, работающих в картезианской системе координат, для механического воздействия на нанообъекты и проведения электрических измерений in situ.

 

Основные
Производитель Raith
Страна производительГермания
  • Цена: Цену уточняйте