Высокотемпературная печь для отжига Centrotherm SiC и GaN Activator 150
- Под заказ
Отправка с 14 июня 2026Цену уточняйте
Описание:
- высокий уровень активации
- минимальная шероховатость поверхности
- максимальная температура 1850°C
- малая занимаемая площадь (1,8м2)
- нагрев до 250 К/мин
- одновременная обработка 2',3',4',6' пластин
- до 50 одновременно обрабатываемых 6' пластин
- вакуум <10-3мбар
- возможность объединения нескольких установок в линию
Высокотемпературная печь Activator 150 компании Centrotherm, была разработана для отжига после имплантации карбид- кремниевых (SiC) и нитрид –галлиевых (GaN) пластин. Уникальный дизайн технологического канала и нагревательной системы позволяет достичь температуры технологического процесса до 1850°C.
Разработка компанией Centrotherm нового поколения печей для обработки SiC была вызвана потребностью обработки развивающегося производства 6' SiC пластин. Высокотемпературная печь Activator 150-5 была специально разработана для нужд научно-исследовательских и опытно-конструкторских разработок (НИОКР), в то время как Activator 150-50 - для крупносерийного производства.
Высокотемпературная печь Activator 150 предлагает широкий спектр возможностей по технологической обработки SiC и GaN – пластин, разрешая оптимизацию и адаптирование процесса отжига для ионно – легированных пластин ( SiC со структурой 3C, 4H, 6H). Это позволяет достичь наивысшей возможной степени активации пластин и их минимальной шероховатости.
Новый кремниевый барботёр (опция) используется для получения неизменных результатов обработки пластин, при использовании силана (SiH4) в процессе обработки. Высокотемпературная печь Activator 150 способна обрабатывать как структурированные пластины, так и пластины с защитным покрытием и без него. Высотехнологичный реактор был разработан для обеспечения высокой эффективности, уменьшения занимаемой площади и снижения стоимости эксплуатации, предлагая высочайшую технологическую гибкость.
|
|
АСМ изображение легированного образца после отжига при 1650 °C |
|
|
Обработка SiC и GaN пластин диаметром до 6' |
Опции
- Загрузочный шлюз
- Регулировка давления (1-25мбар)
- Кремневый барботёр
- Роботизированная система транспортировки пластин
- Профилирование термопар
|
Высокотемпературная печь Activator 150 |
||
|
Модель |
Activator 150-5 |
Activator 150-50 |
|
Размеры и количество одновременно обрабатываемых пластин |
5(15) х 2', 10 x 3', 5 x 4', 5 x 6' |
40(120) х 2', 40 x 3', 50 x 4', 50 x 6' |
|
Нагревательная система |
резистивный нагрев |
резистивный нагрев |
|
Технологические газы |
H2, He, SiH4, C3H8, C2H4, Ar |
H2, He, SiH4, C3H8, C2H4, Ar |
|
Размеры (ДхГхВ) |
2260х1463х2500мм |
2260х1463х2500мм |
|
Потребляемая мощность |
максимум 25кВт |
максимум 45кВт |
|
Источник питания |
400В, 40А(3ф), 50Гц |
400В, 70А(3ф), 50Гц |
|
Сухой воздух |
6000-10000Па |
6000-10000Па |
|
Водяное охлаждение |
25л/мин |
25л/мин |
|
Вытяжка |
400м3/мин |
400м3/мин |
Типовое применение
- Высокотемпературный отжиг после процесса имплантации
- Обработка поверхности карбида кремния (SiC) (например, карбонизация)
- Отжиг нитрида галлия(GaN)
| Основные | |
|---|---|
| Производитель | Centrotherm |
| Страна производитель | Германия |
- Цена: Цену уточняйте
