Описание:
- регулировка температуры техпроцесса до 450 0С;
- высокая равномерность температурного профиля;
- скорость нагрева до 50 К/мин.;
- скорость охлаждения до 180 К/мин.;
- вакуум до 10-5 мбар;
- короткий рабочий цикл.
Области применения:
- гибридные микросборки;
- силовые полупроводниковые компоненты;
- оптоэлектронные компоненты;
- герметичная запайка корпусов;
- корпусирование кристаллов;
- корпусирование светодиодов;
- корпусирование МЭМС.

Пользовательский интерфейс
- Окно заголовка
- Информационное поле
- Навигационная панель
Система идеально подходит для техпроцессов пайки без использования флюсов и получения спаев без пустот в атмосфере различных газов (N2, H2 до 100 %, N2/H2 — 95/5 %). В установке могут использоваться процессы влажной (с использованием HCOOH) и сухой (с использованием ВЧ-плазмы) химической активации поверхности для получения спаев высокой чистоты.
Даже бессвинцовые паяльные пасты или преформы могут использоваться без нанесения флюса.
Компьютер управления технологическим процессом оснащен сенсорным экраном с дружественным интерфейсом с возможностью задания параметров техпроцесса и их сохранения. Наличие последовательного интерфейса обеспечивает передачу данных на ПК для их корректировки и удаленного сервисного обслуживания.
Технические характеристики установки Centrotherm VLO 20
|
Размер пластин, Д х Ш |
230×400 мм |
|
Нагревательная система |
1 нагревательная пластина |
|
Максимальна высота подложек |
100 мм, при использовании плазмы (опция) — 50 мм |
|
Размер камеры |
20 л. |
|
Габариты, Ш х Г х В |
1200 мм х 600 мм х 1300 мм, регулируемая высота ножек — 40...110 мм |
|
Рабочие газы |
N2; H2 до 100 %; N2/H2 до 95/5 % |
|
Электропитание |
400 В/30 А, 12 кВт (пиковая)* |
|
Вода для охлаждения |
15 л./мин., 15-25 0С |
|
Скорость нагрева/охлаждения |
до 50 К/мин. / до 180 К/мин. |
|
Максимальная нагрузка на пластину |
7,5 кг |
|
Вес |
400 кг |
|
Вакуум |
до 10-5 мбар |
|
Скорость откачки |
до 16 м3/час (до 18 м3/час опционально) |
* система имеет возможность подключения к цепям электропитания, принятым стандартами РФ

Пластина нагрева / охлаждения
- Патрубки охлаждения
- Клеммы подсоединения датчика температуры
- Пластина нагрева/охлаждения
- Подвод питания к нагревательным элементам

Опции:
- 100 % H2 газовая линия с защитными блокираторами;
- интегрированный источник HCOOH с защитными блокираторами;
- использование ВЧ-плазмы;
- до 6 термопар для записи температурного профиля;
- нагрев излучением.
| Основные | |
|---|---|
| Производитель | Centrotherm |
| Страна производитель | Германия |
| Пользовательские характеристики | |
| Дополнительный сервис | Установка |
- Цена: Цену уточняйте


Отправка с 14 июня 2026