Описание:
- предварительная откачка рабочей камеры с помощью мембранного насоса или спирального насоса (опция);
- управление мощностью нагрева с помощью тиристорного регулятора;
- автоматизация процесса откачки и газовой продувки камеры, позволяющая проведение процесса «по нажатию одной кнопки»;
- возможность программирования «многостадийного» процесса отжига с помощью встроенного ПИД-контроллера;
- контроль температуры рабочего столика с помощью двух термопар;
- возможность установки оптического пирометра для дополнительного контроля температуры поверхности отжигаемой пластины (опция);
- простота эксплуатации.
Установка STE RTA79 предназначена для проведения процессов быстрой температурной обработки полупроводниковых пластин в инертной среде и ориентирована как на интенсивные исследования и разработки, так и на мелкосерийный выпуск продукции в составе пилотной производственно-технологической линии. Максимальный диаметр обрабатываемой пластины составляет 100 мм. Пластина (образец) загружается в камеру вручную через боковой фланец быстрого доступа и устанавливается на тепловыравнивающий столик из пиролитического графита, под которым находится нагреватель на основе системы линейных галогеновых ламп.
Конструкция установки позволяет проводить сравнительно кратковременные процессы с температурой до 900°С и максимальной скоростью достижения заданной температуры до 40°С/сек. Продолжительность процесса отжига при максимальной температуре составляет до 10 минут. Камера из нержавеющей стали герметична и имеет интегрированное водяное охлаждение стенок. Для наблюдения за процессом отжига в ней предусмотрено кварцевое смотровое окно (используется также для установки ИК-пирометра).
Режимы работы:
- непрерывная продувка камеры инертным газом в ходе отжига образца, регулируемая с помощью ручного ротаметра;
- режим с автоматического поддержания заданного уровня давления внутри камеры.
| Основные атрибуты | |
|---|---|
| Производитель | SemiTEq |
| Страна производитель | Россия |
- Цена: Цену уточняйте


Отправка с 26 мая 2026