Описание:
- Небольшая занимаемая площадь и настольное исполнение, делающие систему незаменимой в лабораторных условиях.
- Камера, вмещающая пластины диаметром до 200 мм и изделия до 33 мм в высоту.
- Конструкция с нагреваемыми до 300 °С стенками, позволяющая достичь равномерности распределения температуры по подложке ±1 °C посредством конвекции (опционально доступен нагреваемый до 500 °С держатель подложек).
- Оснащение 8 высокоскоростными клапанами, соединенными с двумя внешними газовыми линиями и 6 емкостями, обеспечивающими возможность работы с 8 прекурсорами и позволяющими получать разнообразные тонкие пленки и их комбинации.
Другие особенности системы:
- Доступны две нагреваемые емкости (до четырех опционально) и линия подачи инертного газа для прекурсоров с низким давлением паров.
- Система подачи газа с горизонтально расположенным массивом сопел обеспечивает равномерное распределение газа по подложке.
- Возможность точно контролировать давление и время процесса с помощью вакуумного клапана поточного типа для управления экспозицией.
- Возможность работы с микро- и нанопорошками.
Система управления:
- Прецизионный контроль температуры прекурсоров на всем протяжении линии подачи от емкости до камеры, позволяющий исключить конденсацию прекурсоров.
- Высокоскоростные клапаны, обеспечивающие точный контроль дозирования прекурсоров.
- Особая конструкция линии подачи и форлинии, позволяющая достичь высоких скоростей продувки и сокращения времени циклов.
- Стандартный измерительный порт KF40, позволяющий установить опциональные кварцевые микровесы либо оснастку для покрытия частиц.
- Встроенный модуль управления через USB.
- Возможность создания и сохранения параметров режимов нанесения, обеспечивающая высокую повторяемость.
- Запись всех параметров процесса во время работы.
Новые возможности и гибкость:
- Возможность реализации плазменного атомно-слоевого осаждения.
- Линии для металлоорганических, окисляющих и восстанавливающих прекурсоров с максимальной температурой нагрева до 200 °С.
- Нагреваемая вакуумная линия KF50 повышенной пропускной способности для увеличения скорости откачки (опционально).
- Атмосферная камера (опционально).
- Продвинутое программное обеспечение.
Простота обслуживания:
- Удобное и эргономичное настольное исполнение системы с легким доступом к узлам.
- Простой доступ к системе подачи прекурсоров, обеспечивающий быструю смену емкостей.
- Модульная система, позволяющая легко выполнять обслуживание и чистку узлов за минимальное время.
- Газоотвод через систему термического разложения (скруббер).
Технические характеристики систем серии
|
Максимальные размеры изделий |
GS-4 XT: До 4” (100 мм) GS-6 XT: До 6” (150 мм) GS-8 XT: До 8” (200 мм) Высота 33 мм |
|
Размеры системы, Ш х Г х В |
820 мм х 640 мм х 310 мм |
|
Вес системы |
68 кг |
|
Режимы нанесения |
Статический и динамический (с потоком) |
|
Система управления |
ПО GEMFlow™ на базе Windows с удобным пользовательским интерфейсом Импорт/экспорт параметров процесса (рецептов) в виде файлов Excel Встроенный модуль управления через USB |
|
Температура подложек |
25 – 300 °С с равномерностью поддержания < ± 1 °С (для пластины 8”) |
|
Равномерность нанесения |
< ± 1 % (1σ)в пределах подложки < ± 2 % (1σ) от партии к партии |
|
Корпус |
Съемная верхняя панель Заднее размещение подключений |
|
Опции |
Атмосферная камера Нагреваемый до 500 °С держатель подложек Насос Скруббер Генератор озона Комплект для плазменного АСО (для GS-6 XT и GS-8 XT) |
|
Количество прекурсоров |
8 стандартных прекурсоров (4 металлоорганических, 4 окислителя/восстановителя), включая 2 нагреваемые емкости (4 опционально) |
|
Дополнительная подача инертного газа |
GS-4 XT: 4 стандартных клапана для прекурсоров (2 металлоорганических и 2 окислительных прекурсора) GS-6 XT & GS-8 XT: 8 стандартных клапанов для прекурсоров (4 металлоорганических и 4 окислительных прекурсора) |
|
Температурный контроль |
Нагреваемые до 200 °С линии и 2 нагреваемые емкости (до 4 опционально) |
|
Продувочный газ |
1 линия подачи инертного газа для прекурсоров с низким давлением паров |
|
Клапаны |
2-ходовые, высокоскоростные, встроенные в линию с откликом 10 мс |
|
Емкости для прекурсоров |
Емкости 150 см3 из нержавеющей стали с отсечными клапанами |
Сравнительные характеристики систем серии GemStar XT™
| GS-4 XT | GS-6 XT | GS-8 XT |
GS-8 XT-P |
|
|
Тип камеры |
Термическое АСО |
Термическое АСО (опционально плазменное АСО) |
Термическое АСО (опционально плазменное АСО) |
Термическое АСО, плазменное АСО |
|
Манипулятор для 1 пластины |
Ø100 мм |
Ø150 мм |
Ø200 мм |
Ø200 мм |
|
Групповое нанесение |
5 пластин |
5 пластин |
5 пластин |
5 пластин |
|
Макс. температура |
300 °С |
300 °С |
300 °С |
300 °С |
|
С опцией нагреваемого держателя |
- |
500 °С |
500 °С |
500 °С |
|
Количество внешних линий подачи газа |
1 |
2 |
2 |
2 |
|
Количество портов для прекурсоров |
4 |
8 |
8 |
8 |
|
Максимальная температура линии |
200 °С |
200 °С |
200 °С |
200 °С |
|
Количество емкостей 150 см3 |
0 (опционально 4) |
3 (опционально 6) |
3 (опционально 6) |
6 |
|
Количество нагреваемых до 175 °С зон емкостей |
0 (опционально 2) |
2 (опционально 4) |
2 (опционально 4) |
2 (опционально 4) |
|
Количество внешних газовых портов с шаровыми клапанами |
0 (опционально 1) |
2 (опционально до 4) |
2 (опционально до 4) |
2 (опционально до 4) |
|
Тип фланца вакуумной линии |
KF25 (опционально KF50) |
KF25 (опционально KF50) |
KF25 (опционально KF50) |
KF50 |
|
Измерительный порт |
KF40 |
KF40 |
KF40 |
KF40 |
|
Ноутбук с установленным ПО |
Доступен опционально |
Включен |
Включен |
Включен |
|
Атмосферная камера |
Доступна опционально |
Доступна опционально |
Доступна опционально |
Доступна опционально |
|
Система генерации озона |
Доступна опционально |
Доступна опционально |
Доступна опционально |
Доступна опционально |
|
Комплект для плазменного АСО |
- |
Доступен опционально |
Доступен опционально |
Доступен опционально |
Опция генерации удаленной индуктивно связанной плазмы.
| Основные | |
|---|---|
| Производитель | Arradiance |
| Страна производитель | США |
- Цена: Цену уточняйте




Отправка с 02 мая 2026